ASML：EUV光刻机非常复杂 只有我们能造出来
很多人都知道半导体工艺中光刻机是最核心的，因为它决定了半导体工艺的技术水平，而且成本能占到整个芯片的1/3。在进入7nm节点之后，光刻机也需要升级到EUV光刻机，目前仅有荷兰ASML公司能造，该公司CEO表示EUV光刻机非常复杂，没有可能被复制，全球只有ASML能生产。
据荷兰媒体报道，在1月22日的ASML财报会议上，ASML公司CEO Peter Wennink谈到了EUV光刻机的问题，他解释说ASML是EUV光刻机的系统集成商，这套设备集成了全球数百家公司的技术，拥有超过8000多个零部件，许多零件都是非常复杂的。
Peter Wennink表示，以镜头为例（注：物镜系统是光刻机三大核心之一，其他两个是激光系统、工作台），卡尔蔡司为ASML提供光学镜头，集成了各种反光镜及光学部件，世界上没有哪家公司能够复制他们的技术。
Peter Wennink强调，ASML的光刻机装有传感器，一旦检测到异常情况就会发出警报。
根据ASML财报的最新财报，2019年该公司交付了26台EUV光刻机，远超上一年的18台，预计2020年交付35台EUV光刻机，2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。
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责任编辑：宪瑞
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